Kammerinnsats

Produktbeskrivelse

I det banebrytende-feltet innen halvlederproduksjon fungerer keramiske kammerinnsatser av aluminiumoksyd som foring og kjerneforbruksvarer for kritiske prosesskamre. Med sine eksepsjonelle materialegenskaper gir de et stabilt, rent og holdbart reaksjonsmiljø for kjerneprosesser som chipetsing, tynn-filmavsetning (CVD/PVD) og ioneimplantasjon. Ytelsen deres påvirker direkte prosesspresisjon, produksjonsutbytte og driftskostnader for utstyr.

Produktytelse

• Eksepsjonell plasmakorrosjonsbestandighet: Under etse- og CVD-prosesser fylles kamrene med høy-, svært reaktive plasmaer (f.eks. fluor- eller klor-basert). Høy-alumina-keramikk viser ekstrem kjemisk treghet, og motstår effektivt bombardement og kjemisk erosjon fra slike plasmaer.
• Eksepsjonell renhet og lav forurensning: Den høye renheten til 99,9 % alumina-keramikk-og til og med 99,99 % alumina-keramikk-sikrer minimal frigjøring av metallioner (f.eks. Na, K, Fe) eller andre urenheter under høye-temperatur- og plasmaforhold.
• Overlegen høy-temperaturstabilitet og lav utgasshastighet: Høy-temperatur-bestandig alumina-keramikk opprettholder langtids-stabilitet ved 1600 grader. Deres relativt lave termiske ekspansjonskoeffisient resulterer i minimal deformasjon under gjentatt termisk syklus.
• Eksepsjonell mekanisk styrke og stivhet: Til tross for at den er keramisk, viser aluminiumoksydkeramikk med høy-renhet enestående bøyestyrke og hardhet (Mohs hardhet 9, nest etter diamant). Den tåler mekaniske påkjenninger og monteringsbelastninger, og sikrer kammerets strukturelle integritet.
• Utmerkede isolasjonsegenskaper: Som en overlegen elektrisk isolator isolerer den effektivt plasma fra metallhulrom, og hjelper til med presis kontroll av plasmamorfologi og distribusjon.
• Termisk sjokkmotstand: Gjennom optimaliserte materialformuleringer og mikrostrukturell kontroll, viser moderne strukturell keramikk av aluminiumoksyd forbedret termisk sjokkmotstand, noe som gjør dem i stand til å motstå raske temperatursvingninger under prosessering og reduserer risikoen for sprekker.

Produktapplikasjon

• Beskyttelse av hovedkammeret: Forhindrer at reaksjonsbiprodukter som genereres under prosessen (hvis filmmaterialer og biproduktpartikler) avsettes direkte på de dyre og vanskelige-å-rengjøre permanente kammerveggene og kritiske komponenter, noe som forlenger levetiden til hovedutstyret betydelig og reduserer vedlikeholdskostnadene.
• Oppretthold prosessrenslighet: Reduser partikkelkilder i kammeret ved å fange opp forurensninger og biprodukter. Når innsatsoverflatene blir for tykkere eller sterkt forurenset, kan de skiftes ut direkte, noe som raskt gjenoppretter kammerets renhet og sikrer produktutbytte.
• Optimaliser prosessytelse: Visse innsatser (hvis gassfordelingsplater) deltar direkte i prosessen, og sikrer jevn fordeling av reaksjonsgasser i kammeret. Dette garanterer jevnhet i filmavsetning eller etsing.

kvalitetskontroll

Sertifikater og utmerkelser

fabrikkstyrke

Våre digitale verksteder, Intelligent Factory og sanntids-datainnsamlingssystemer utnytter slanke produksjonsprinsipper for å minimere avfall og maksimere ressurseffektivitet. Ved å inkorporere CNC-maskinteknologi, Industrial Internet of Things (IIoT)-teknologi og automatiserte kontrollsystemer, oppnår vi sømløs tilkobling og samarbeid mellom produksjonsutstyr, og maksimerer dermed produksjonsbesparelser.